ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ КВАНТОВЫЕ ЯМЫ
В полупроводниковых квантовых ямах (КЯ, англ. quantum well — QW) очень тонкий слой одного соединения (Lz = 5—20 нм) с меньшей шириной запрещенной ЗОНЫ Egl помещен между двумя слоями другого соединения с большей шириной запрещенной зоны Eg2 (см. рис. 3.21а). На практике такая ге-
Рис. 3.21
'у с. Ь. |
FlT^f Јf2 EKl Eg* |
А) Схематическое представление полупроводниковой квантовой ямы.
Б) Соответствующая зависимость энергий дна зоны проводимости (с. Ь.)
Идя |
И потолка валентной зоны (v. b.) от координаты z вдоль полупроводниковой гетероструктуры, изображенной на рис. (а)
Тероструктура изготавливается с использованием сложных технологий молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ) или газофазной эпитаксии металлоорганических соединений (ГФЭМОС). Поскольку Egl < Eg2, то в полупроводнике будут формироваться потенциальные ямы: для электронов — вблизи потолка валентной зоны, и, Ь, а для дырок — вблизи дна зоны проводимости, су Ъ (рис. 3.216). Поскольку движение электронов и дырок в таких потенциальных ямах является ограниченным, а размеры полупроводниковой структуры в этом случае сравнимы с длиной волны де Бройля электронов и дырок, то в энергиях их состояний весьма отчетливо проявляется квантовый размерный эффект. Более того, благодаря малой толщине промежуточного слоя в данном случае оказывается возможным использовать соединения с существенно отличающимися постоянными решетки; что приводит к возникновению напряжения внутри тонкого квантового слоя. Это напряжение значительно изменяет локальные квантовые свойства полупроводника с квантовыми ямами и, в частности, эффективные массы носителей. Квантовый размерный эффект и (для напряженных квантовых ям, англ. strained quantum wells) изменение эффективных масс приводят к тому, что оптические свойства полупроводников с КЯ существенно отличаются от свойств исходных объемных полупроводников. В частности, значительно возрастает дифференциальный коэффициент усиления в веществе. Плотность числа электронов при условии прозрачности, оставаясь в ненапряженных квантовых ямях (англ. unstrained quantum wells) сравнимой с характерной величиной этого параметра в объемных полупроводниках, заметно уменьшается в напряженных КЯ. Преимущества, которые эти улучшенные свойства КЯ обеспечивают с точки зрения уменьшения порога генерации и увеличения коэффициента усиления моды, будут рассматриваться в соответствующем разделе главы 9, посвященном полупроводниковым лазерам. Здесь же просто ограничимся констатацией того, что полупроводники с квантовыми ямами, напряженными или ненапряженными, стали наиболее широко используемыми активными средами полупроводниковых лазеров.