Испарение Si02
Кремнезем может испаряться непосредственно при чрезвычайно высокой температуре в плазменной струе [448—450]. Когда конденсация происходит в отсутствие водорода, а диспергирование— в масляной среде, такой, например, как дибутилфта - лат, то кремнеземный порошок оказывается нетиксотропным. Было признано, что группы SiOH на поверхности частиц необходимы для удерживания кремнеземных частиц в виде тнксо - тропной сетки посредством образования водородных связей в том случае, когда такой кремнезем находится в относительно неполярной жидкой среде. Как было отмечено в гл. 4, дискретные кремнеземные частицы с полностью этерифицированной поверхностью и не имеющие на ней неприкрытых групп SiOH превосходно диспергируются даже в углеводородных растворителях при высокой концентрации кремнезема, давая незначительное. повышение вязкости. Полностью обезвоженная поверхность Si02 органофильна и гидрофобна, и если такой кремнезем диспергировать в воде при значении рН 2, чтобы задержать процесс гидратации поверхности, то, без сомнения, будет развиваться некоторая степень тнксотропии благодаря образованию гидрофобных связей, как это отмечалось на других частично гидрофобных частицах кремнеземного порошка. Хаусман [451] запатентовал установку с использованием азота в качестве газоразрядной плазмы для испарения кремнезема.
Как описал Берби [8], введение в струю газоразрядной плазмы какого-либо вещества, приводящего к образованию групп SiOH на поверхности кремнезема, способствует тому, что наблюдается тиксотропия кремнезема в маслах. Авторы работы [452] отметили, что когда такая плазма содержала водород или аммиак, то шло некоторое восстановление кремнезема, вероятно, до более летучего SiO; когда последний повторно окислялся, шло образование конечного продукта с очень высоким значением удельной поверхности.
