Гистерезис смачивания
При растекании жидкости по твердой поверхности часто наблюдается задержка, а в ряде случаев и полное прекращение растекания задолго до достижения истинно равновесного состояния.
Задержку продвижения периметра смачивания по гладкой поверхности, вызываемую изменением ориентации молекул жидкости, называют кинетическим гистерезисом смачивания16-17.
Для одних и тех же материалов краевой угол смачивания на шероховатых поверхностях и порошках 6' всегда несколько отличен от краевого угла смачивания на гладких поверхностях 0. Поры и трещины, имеющиеся даже на гладких поверхностях, являются причиной различия величины краевых углов «натекания» и «от- текания»13. Например, для шлифованной поверхности фактор микроскопической шероховатости г, представляющий собой соотношение
cos 6'
Г COS0
составляет 1,5—2 и более.
Углы и ребра кристаллов не только замедляют смачивание, но вследствие мозаичности поверхности кристалла может произойти полное прекращение растекания жидкости. Задержку смачивания порошкообразных
материалов называют дисперсионным гистерезисом12-16-18.
Дисперсионный гистерезис оказывает большое влияние на величину краевых углов смачивания. Вещества, хорошо смачиваемые, когда они находятся в виде больших кусков или крупнозернистых порошков, перестают «смачиваться при их измельчении и в ряде случаев изотерма омачивания из области положительного значения cos©' переходит к отрицательному. Это наглядно было показано на примере измельчения гематита19 и окиси кремния20*22.
Высокодисперсные пигменты смачиваются всегда значительно медленнее, чем пигменты с более крупными частицами.
Смачивающая жидкость, попадая .на имеющуюся на твердой поверхности прослойку адсорбированных газов и влаги, стремится их вытеснить и вступить в прямой контакт с твердой поверхностью, Эта задержка смачивания, обусловленная порядком или очередностью соприкосновения поверхности тела со смачивающей жидкостью, была названа П. А. Ребиндером16 статическим или порядковым гистерезисом. Разность величин косинусов краевых углО:В смачивания идеально чистой поверхности и реальной поверхности, на которой имеется адсорбционный слой, определяет величину порядкового гистерезиса Н:
Н = cos 0Х — со? G;,
В ряде работ23*25 показано, что адсорбция газов, особенно кислорода, значительно снижает смачиваемость чистых металлов и минералов водой. Как уже указывалось, на поверхности пигментов всегда имеется заметное количество адсорбированных газов, которые вытесняются при смачивании. С поверхности 1 г низко- диспероных пигментов при смачивании вытесняется ст 0,12 до 0,60 см3 воздуха, обогащенного кислородом26 27. На поверхности частиц 1 г двуокиси титана анатазной формы адсорбируется 2,4—2,8 см3 кислорода, который не удается удалить путем вакуумирования при комнатной температуре28. В отличие от чистого азота29'30 адсорбция воздуха вызывает резкое увеличение краевого угла смачивания водой, по-видимому, вследствие присутствия двуокиси углерода. Порядковый гистерезис
имеет место и при смачивании влажных пигментов органическими связующими31. Удельная свободная поверхностная энергия жидкостей (кроме жидких металлов) обычно составляет от 15 до 40 эрг!см2. Твердые веществ: принято разделять на две группы: с высокой и низкой удельной поверхностной энергией. К первой группе от носят металлы, их окислы и соли, стекла и другие г вер дые тела с величиной свободной поверхностной энергии •более 100 эрг!см2, ко второй группе — вещества с величиной свободной поверхностной энергии до 100 эрг!см-. например такие низкоплавкие и относительно мягкие материалы, как воск, парафин, термопластичные полимеры и пленкообразующие, а также органические пигменты.
Известны случаи, когда некоторые жидкости не растекаются по твердой поверхности, обладающей высокой энергией. Это объясняется13 адсорбцией на ней в пер •вую очередь летучих веществ или примесей: образующийся промежуточный слой уменьшает поверхностную энергию настолько, что твердая поверхность ведет себя уже как вещество с низкой энергией. Смачивающая жидкость может адсорбироваться на поверхности с .высокой энергией, образуя ориентированный монослой, по которому она сама не может растекаться. Такие жидкости называются аутофобными.
Известно, что чистые сложные эфиры ограниченно растекаются или совсем не растекаются па гидратированных поверхностях. Это явление объясняется32 гид ролизом, происходящим сразу после адсорбции эфиров на гидратированных поверхностях. В результате продукты реакции покрывают твердую поверхность адсорбционной пленкой, по которой сам сложный эфир не может растекаться.