ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ СОЛНЕЧНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ

МЕТОДЫ ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК

Образование зародышевых центров, микроструктура расту- щих тонких пленок и, следовательно, их физические свойства зависят от применяемого метода осаждения и параметров этого процесса. Двумерные слои толщиной от нескольких десятых долей нанометра до сотен микрометров могут быть получены с помощью большого количества так называемых тонкопленоч­ных и толстопленочных методов. Толстопленочные методы свя­заны с осаждением пленок какого-либо вещества из приготов­ленных на его основе паст или растворов. Оба вида технологи­ческих методов обеспечивают получение тонкопленочных мате­риалов с различной микроструктурой и широким диапазоном свойств.

При использовании тонкопленочных солнечных элементов большой площади в наземных условиях учитываются не только- их энергетические характеристики, но и экономические показа­тели. Это обусловливает необходимость применения методов как тонкопленочной, так и толстопленочной технологии, кото­рые удовлетворяют таким требованиям, как простота, низкая стоимость, возможность создания однородных пленок большой площади и управления процессом осаждения, а также позволяют получать пленки с определенными струк­турными, физико-химическими и электрооптическими свой­ствами. Методы осаждения подробно рассмотрены в литературе [1—6]. В данной главе представлен краткий обзор методов,, которые в наибольшей степени подходят для получения пленок, используемых в солнечных элементах. Особо выделен ряд но­вых перспективных методов, которые до сих пор не освеща­лись.

Процесс осаждения тонкой пленки состоит из трех этапов:

  • получение вещества в виде атомов, молекул или ионов,.
  • перенос этих частиц через промежуточную среду, 3) кон­денсация частиц на подложке. В зависимости от того, каким

 

способом были получены частицы пара: с использованием фи­зического (термическое испарение или ионное распыление), химического или электрохимического процессов, можно про­вести следующую классификацию методов осаждения: 1) фи­зическое осаждение из паровой фазы, 2) химическое осажде­ние из паровой фазы, 3) химическое осаждение из раствора,

  • электрохимическое осаждение. На основе методов физиче­ского и химического осаждения из паровой фазы разработаны комбинированные , методы, такие, как реактивное испарение, реактивное ионное распыление и плазменное осаждение. В по­следующих разделах рассматриваются основные принципы и характерные особенности различных методов осаждения тон­ких пленок.
Добавить комментарий

ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ СОЛНЕЧНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ

Реактивное испарение

  Создавая условия для химического взаимодействия содер­жащихся в паре частиц различных веществ либо в процессе их перемещения от источника к подложке, либо непосредственно на поверхности подложки, можно получать пленки различных …

Физическое осаждение из паровой фазы

  Вакуумное испарение Кинетика процесса Испарение материала осуществляется при довольно высо­кой температуре, обеспечивающей необходимое давление паров. Согласно кинетической теории Ленгмюра — Дэшмана, скорость свободного испарения атомов с чистой поверхности единичной …

Как с нами связаться:

Украина:
г.Александрия
тел./факс +38 05235  77193 Бухгалтерия
+38 050 512 11 94 — гл. инженер-менеджер (продажи всего оборудования)

+38 050 457 13 30 — Рашид - продажи новинок
e-mail: msd@msd.com.ua
Схема проезда к производственному офису:
Схема проезда к МСД

Оперативная связь

Укажите свой телефон или адрес эл. почты — наш менеджер перезвонит Вам в удобное для Вас время.