НАНОТЕХНОЛОГИЯ В БЛИЖАЙШЕМ ДЕСЯТИЛЕТИИ
Нанопечатная литография (НПЛ) С. Чоу1
|
|
|
А Прессование |
|
Пресс-форма Резист Подложка |
|
Б Реактивное ионное травление |
НПЛ представляет собой новый высокоэффективный подход к производству дешевой нанолитографической продукции [22, 23]. В методе НПЛ изображение образуется в основном за счет физической деформации резиста пресс- формой (штампом), а не за счет модификации химической структуры резиста облучением, как в обычной литографии (рис. 4.2). Это принципиальное различие освобождает НПЛ от многих проблем, связанных со стандартными метода-
Рис. 4.2. Схема процесса НПЛ [23] (© American Association for the Advancement of Science). a — печать с использованием штампа создает в резисте отдельные участки разной толщины; б — перенос изображения создается с помощью анизотропного вытравливания остатков резиста на вдавленных участках.
Ми литографии (диффузионный предел, рассеяние и химические процессы). В результате с помощью НПЛ можно недорого и с высоким выходом получать структуры размером менее 10 нм на больших площадях (рис. 4.3), что недоступно для всех существующих методов литографии.
Низкая стоимость метода НПЛ позволяет организовать коммерческое производство наноструктур и сделать их общедоступным материалом. Роль НПЛ в нанотехнологии в большой степени сравнима с ролью персонального компьютера в вычислительной технике, который сделал общедоступными компыотер-
>ll< 10 нм
Рис. 4.3. СЭМ-изображение структуры полиметилметакрила - та, полученной методом НПЛ (диаметр отверстий ~ 10 нм, период решетки 40 нм, глубина 60 нм) [24] (© 1997 American Vacuum Society).
Ные методы. Поэтому с методом НПЛ, возможно, будет связано развитие не только технологии интегральных схем, но и целых научных направлений, в частности биологии, химии, медицины и материаловедения.
